Sistèm Endistriyèl Multi-Arc PVD la itilize gwo -yonizasyon katodik ak depo vapè fizik pou depoze kouch esteyyometrik ki dans, difisil (tankou TiN, TiAlN, CrN, ak DLC) sou substrats metalik. Enjenyè pou gwo -sant kontra kouch ak liy manifakti kaptif, sistèm sa a optimize rezistans mete, rediksyon friksyon, ak estabilite tèmik pou konpozan presizyon.
Espesifikasyon teknik
|
Paramèt |
Gamme spesifikasyon |
|
Chanm Dimansyon |
Konfigirasyon koutim (Dia. 800 x 1000 mm rive nan Dia. 1500 x 1500 mm, 304/316L Nerjaveèi) |
|
Presyon vakyòm ultim |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo Molecular & Roots Pump configuration) |
|
Travay presyon vakyòm |
0.1 a 3.0 Pa (kontwole atravè MFC dijital) |
|
Katod Power Supply |
DC Arc: 100 A - 200 A; Enpulsyonèl patipri: 0 a -1000 V reglabl |
|
Substrate aparèy wotasyon |
Wotasyon planèt, 0 - 10 rpm, kapasite chaj jiska 500 kg |
|
Sistèm chofaj |
Aparèy chofaj radyan asye pur, tanperati maksimòm 600 degre C (+/- 5 inifòmite degre C) |
|
Kontwòl Pwosesis |
PLC + PC Endistriyèl, egzekisyon resèt otomatik, anrejistreman done an tan reyèl- |
|
Kondisyon pou sèvis piblik |
Dlo refwadisman: 0.2 - 0.3 MPa, 25 degre C; Pouvwa: 380V, 3-faz, 50/60Hz |
Karakteristik kle
Sous Arc Cathodic Filtre:Filtraj mayetik minimize jenerasyon makropartikul (goutte), bay fini sifas ki pi dous (Ra < 0.1 um).
Fèmen-Jaden dezekilib Magnetron Konfigirasyon: Enhances substrate-zone plasma density, achieving film adhesion scratch-test critical load Lc >= 80 N.
Doub-Règleman sou koule gaz:Fèmen -kontwòl fidbak lè l sèvi avèk manomèt kapasite ak gwo -MFC presizyon pou gaz reyaktif (N2, C2H2, O2).
Sous depo modilè:Layout planè ak silendrik ki ka ranplase yo pèmèt chanjman rapid sib pou achitekti milti-kouch.
Konfigirasyon sistèm vakyòm
Ponp degrosaj:Rotary vane oswa sèk vis mekanik fè bak pou elimine backstreaming lwil oliv.
Ponp vakyòm segondè: Magnetic levitation turbo molecular pump (>= 3200 L/s) asosye ak yon souflè rasin.
Fermeture ak tiyo:Tiyo pòtay chanm konpwesyon lè, ISO -F/CF brides ak Viton/metal joints; Elyòm mas spectromètre fuite pousantaj <1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Siveyans presyon:Konbine Pirani ak katòd frèt ionizasyon mezi.
Materyèl evaporasyon ak konpatibilite substrate
Objektif Katod estanda:Ti, Al, Cr, TiAl, Zr, Cu, Graphite (purity >= 99.95%).
Materyèl substrate:Karbid simante (WC-Co), HSS, asye alyaj (SKD11, 40Cr), alyaj Titàn (Ti-6Al-4V), ak asye pur (304, 316L).
Pre-tretman:Mande pou degrese ultrasons ak in-situ agon plasma ion grave (Ar + bonbadman) pou elimine oksid sifas anvan depo.
Aplikasyon
Koupe ak fòme zouti:Moulen fen, kouto hobbing, ak foure kouvwi ak TiAlN/TiN pou pwolonje lavi zouti pa 200% - 400% anba machin sèk.
Konpozan otomobil:Piston bag, broch injector, ak tappets kouvwi ak CrN/DLC pou diminye fwontyè fwontyè ak friksyon.
Aparèy medikal:Vis òtopedik, lam chirijikal, ak abutman dantè ki itilize TiN/ZrN pou biocompatibility ak rezistans korozyon.
Materyèl endistriyèl:Mold cavities and precision gears requiring high surface hardness (>3000 HV).
Personnalisation
Dimansyon chanm:Adapte dyamèt enteryè ak pwofil wotè echèl nan volim pakèt espesifik oswa pyès ki gqo.
Layout katod:4 a 12 fant sous ark configurable pozisyone simetrik pou asire distribisyon epesè nan +/- 8%.
Entegrasyon patipri:Opsyonèl gwo -pouvwa enpulsyon magnetron sputtering (HPPMS) entegrasyon ibrid ansanm ak sous estanda ak katodik.
Otomatik:Entegrasyon ak bra chajman otomatik ak sistèm ekzekisyon manifakti SCADA.
Kontwòl Kalite
Enspeksyon materyèl:Spectrographic analysis verifying raw target metallic purity (>= 99.95%).
Tès estriktirèl:Verifikasyon dimansyon CMM nan chanm ak tès presyon idrostatik nan chanèl refwadisman.
Tès Akseptasyon faktori (FAT):72-èdtan kontinyèl sèk-tès ki kouvri wotasyon mekanik, koub ponp desann, ak estabilite tèmik.
Verifikasyon kouch:Koupon tès yo evalye atravè pin-sou-tès mete disk, endentasyon Rockwell, ak analiz epesè FESEM -seksyon transvèsal.
Enstalasyon ak sipò teknik
Preparasyon sit:Dokiman jeni detaye pou limit chaj etaj, to koule dlo refwadisman, ak egzijans busbar elektrik.
Komisyonè:Enstalasyon sou plas-, kalibrasyon vakyòm, ak transmisyon resèt pwosesis debaz pa enjenyè jaden.
Fòmasyon Operatè:Pwogram estriktire ki kouvri antretyen woutin, ranplasman sib, lachas fuit, ak depanaj debaz PLC.
Sipò pou sik lavi:Entegrasyon koòdone dyagnostik adistans pou anrejistreman paramèt tan reyèl-ak izolasyon rapid fay.
FAQ
K: Ki pousantaj itilizasyon tipik katod sib la?
A: Katod planar arc tipikman reyalize 45% a 60% itilizasyon depann sou pwofil la ewozyon mayetik.
K: Ki jan sistèm nan bese makropartikul?
A: Dirijan chan mayetik ak kanal katodik (FCVA) filtre si ou vle pèlen makropartikil sendika anvan yo rive nan substra a.
K: Ki tan an mwayèn sik pwosesis?
A: Estanda depo TiAlN pran 3 - 4 èdtan, ki enkli ponp-desann, chofaj, grave, depo, ak refwadisman pou yon fim 3 - 5 um.
K: Èske aparèy chofaj oksilyè obligatwa andedan chanm lan?
A: Wi. Bank aparèy chofaj radyan yo prechofe substrats a 350 °C - 550 °C pou libere imidite epi asire adezyon kouch.
Baj popilè: milti-arc pvd mens fim ekipman, Lachin milti-arc pvd mens fim ekipman manifaktirè, founisè, faktori
