Endistriyèl depo vapè fizik (PVD) platfòm enjenyè pou sentèz gwo -pousantaj nan kouch ki dans, ki reziste -, ak fonksyonèl. Si w kenbe yon gwo -aktyèl, ba-dechaj katodik vòltaj sou sifas sib solid jenere yon kouran plasma iyonize 80% a prèske 100%.
Konbine avèk prejije substrate negatif pwogramasyon, enèji sinetik segondè sa a kondui melanj entèfas atomik -echèl, ki bay adezyon fim siperyè ak zewo porosite kolòn. Achitekti chanm lan sipòte konfigirasyon modilè milti-katod pou depozisyon otomatik nan yon sèl-kouch, milti{-laminasyon nano-kouch, ak kouch gradyan esteyyometrik (TiN, TiAlN, CrN, TiCN).
Espesifikasyon teknik
|
Paramèt |
Jeni spesifikasyon |
|
Chanm Dimansyon |
Custom silendrik / rektangilè (Estanda: Phi 800 mm x 1000 mm jiska Phi 2000 mm) |
|
Estrikti Chanm |
Double-ranpa SUS304/316L Nerjaveèi ak kanal entegre dlo refwadisman espiral |
|
Presyon vakyòm ultim |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Backed by magnetic levitation turbomolecular + roots-rotary pump stack) |
|
Ponpe-Desann Sik |
Atmosfè a 6.0 x 10^-3 Pa pous<= 15 minutes |
|
Sous Katòd Arc |
4 a 8 chanèl DC endepandan (Phi 85 mm / Phi 100 mm dlo -detantè sib refwadi) |
|
Sòti pouvwa Arc |
0-200 A kontinyèlman reglabl pou chak chanèl; entegre microsecond arc trempe |
|
Substra Bias Pwovizyon pou |
0-1000 V reglabl, pwodiksyon DC enpulsyonèl (ranje frekans 10-50 kHz) |
|
Chofaj Substra |
Quartz enfrawouj lanp etalaj; plafon operasyonèl 600 degre (+/- 5 inifòmite degre) |
|
Mouvman aparèy |
Wotasyon planèt oswa doub aks-atravè likid mayetik wotasyon rotary (0-5 RPM) |
|
Kontwòl Achitekti |
PLC + PC Endistriyèl (IPC) kouri ekzekisyon resèt tan reyèl-ak verrouillage sekirite fil elektrik |
Karakteristik kle
Segondè to ionizasyon:Vaporizasyon katodik dirèk konvèti flux metalik nan iyon ki gen gwo -dansite, sa ki fè pwomosyon estrikti grenn dans san mikwo-vide.
Aktif volan mayetik:Bobin elektwomayetik pwogramasyon bale plas la arc atravè fas sib yo, siprime kratering lokalize ak kondwi itilizasyon materyèl sib pi lwen pase 60%.
Kontwòl gaz dinamik:Bouk fèmen -Mass Flow Controllers (MFCs) kontwole piki gaz reyaktif (N2, O2, C2H2) atravè fidbak presyon pasyèl tan reyèl-.
Sinèji milti-sous:Mi chanm yo akomode layout sib ibrid, sa ki pèmèt san enteripsyon sekans depozisyon kouch seramik milti-konpozan nan yon sèl sik vakyòm.
Konfigirasyon sistèm vakyòm
Gwoup Roughing & Roots:Ponp rotary vane ak kondwi dirèk-ki asosye ak yon gwo-deplasman Roots soufle pou jere gwo chaj gaz pandan pwosesis reyaktif.
Etap vakyòm segondè:Magnetic levitation turbomolecular pump (>= 1600 L/s) makonnen atravè yon gwo -valv pòtay pneumatik konductans.
Enstrimantasyon vakyòm:Konfigirasyon Pirani ak Cathode Fwad ki konekte doub-kalib siveyans presyon total varye ant atmosfè jiska 10^-6 Pa.
Entegrite koule:Elastomè -sele bride ak dlo-refwadisman jacketed kenbe pousantaj koule sistèm anba 1.0 x 10^-9 Pa * m3/s.
Materyèl evaporasyon ak konpatibilite substrate
Materyèl Sib Katod
Tranzisyon metal ak alyaj:Titàn (Ti), Kwòm (Cr), Zikonyòm (Zr), Aliminyòm (Al), Titàn -Aliminyòm (TiAl 50/50, 33/67), Tungstène (W).
Ki pa-Metalik:Graphite (C) ki wo -pite pou Diamond-Tankou Kabòn (DLC) ak kouch carbure.
Endistriyèl substrats
Zouti Steel & Carbides:High -Steed Steel (HSS), Simante Carbides (WC-Co).
Alyaj estriktirèl:Austenitic/Martensitic Nerjaveèi asye, Titàn Alliages (TC4), Nikèl-Superalliaj ki baze sou (Inconel).
Aplikasyon
Zouti pou koupe presizyon:Depozisyon TiAlN ak AlTiN sou egzèsis, moulen fen, ak plak angrenaj pou ogmante dite sifas a 3300-3500 HV ak elve rezistans oksidasyon tèmik jiska 800 degre.
Jeni otomobil:Ba-friksyon, kouch-ki reziste sou konpozan piki gaz, bag piston, ak pousyè.
Mwazi ak mouri:Depozisyon nitrure Kwòm (CrN) sou mwazi plastik pou anpeche mete adezif, mikwo-soude, ak résine kole.
Opsyon personnalisation
Dimansyon chanm:Modifikasyon jewometrik ki adapte pou panno achitekti gwo oswa gwo -kawozèl zouti piti.
Ibridizasyon sous:Entegrasyon sous arc katodik ak dezekilib magnetron (UBM) sputtering oswa katod HiPIMS nan yon kò inifye.
Entèfas automatisation:Entegrasyon MES faktori atravè pwotokòl OPC-UA ansanm ak opsyon otomatik chajman.
Kontwòl Kalite & Tès Faktori
Verifikasyon Fuit Elyòm:Tcheke koule espektwomèt mas egzekite sou tout soude ak sele vakyòm.
Odit sekirite elektrik:Tès izolasyon Hipot, chèk kontinwite atè, ak E-stop verifikasyon bouk sikwi.
72-Tès Burn-In:Siklis kontinyèl -siklèt wotasyon mekanik, switch koule dlo, ak sekans valv PLC anvan yo demonte.
Tès Akseptasyon faktori (FAT):Fè sou sit-pou valide nivo vakyòm debaz yo, estabilite ignisyon arc, ak distribisyon epesè debaz sou koupon kalibrasyon yo.
Enstalasyon ak sipò teknik
Transmisyon kondisyon pou etablisman an:Detailed utility drawings specifying floor loading capacity, chilled water specifications (>= 0.3 MPa, 15-25 degre), ekstraksyon tiyo echapman, ak gout ekipman pou pouvwa (3-faz, 380V/480V).
Komisyonin jaden:Sipèvizyon sou plas-enjenyè mekanik ak elektrik jaden ki kouvri aliyman, branche, ak lo esè.
Fòmasyon Operatè:Enstriksyon estriktire sou konfigirasyon resèt lojisyèl, pwosedi echanj sib katod, ak antretyen vakyòm prevantif.
Diagnostik adistans:Sekirize pòtay VPN endistriyèl ki entegre nan panèl kontwòl la pou telemetri lojisyèl ak sipò depanaj.
Kesyon yo poze souvan
K: Ki jan sistèm nan jere mikrogoulèt (macroparticules) komen nan pwosesis arc katodik ki pa filtre?
A: Konfigirasyon estanda yo itilize jaden volan elektwomayetik optimize pou kontwole vitès tach arc ak minimize emisyon ti gout. Pou aplikasyon pou semi-conducteurs oswa optik ki mande nivo defo sub-mikwòn, modil kanal mayetik Filtered Cathodic Arc (FCA) ka entegre nan pyèj makropartikil net.
K: Ki tan tipik ranplasman sib la?
A: Katod yo sèvi ak konsepsyon mekanik ki lage rapid-. Yon operatè ki resevwa fòmasyon ka egzekite yon seri konplè ranplasman sib nan lespas 30 minit san yo pa kraze sele chanm estriktirèl.
K: Èske sistèm nan ka egzekite otomatik gradyan milti-kouch kouri san entèvansyon operatè a?
A: Wi. Motè resèt PLC a kontwole resèt milti-etap, jere tranzisyon nan presyon pasyèl gaz reyaktif, pwofil patipri substrate, ak deklanchman sekans pouvwa-kanal otomatikman.
K: Ki kondisyon egzak sèvis piblik debaz pou preparasyon sit?
A: The installation site must supply a closed-loop industrial chiller (15-30 kW cooling capacity), clean compressed air (>= 0.6 MPa), high-purity process gases (Ar, N2, C2H2 at >= 99.999% pite), ak ki estab endistriyèl 3-faz pouvwa.
Baj popilè: arc evaporasyon depo ekipman, Lachin arc evaporasyon depo ekipman manifaktirè, Swèd, faktori
