Plasma grave ekipman fim mens

Plasma grave ekipman fim mensse yon solisyon dènye -ki fèt pou retire ak presizyon nan kouch fim mens-, ki ofri pèfòmans eksepsyonèl nan modifikasyon sifas ak retire rezidi yo. Swiv teknoloji reyaktif ion grave (RIE), ekipman sa a konbine reyaksyon chimik ak bonbadman iyon fizik pou reyalize retire fim inifòm ak kontwole.

• Pwosesis Tanperati ki ba-: Ekipman Plasma Etching mens fim nan opere nan tanperati ultra-ba, minimize estrès tèmik ak anpeche deformation substra. Karakteristik sa a enpòtan anpil pou materyèl delika tankou polymère ak optik presizyon.
• To Gravure reglabl: Distans ki genyen ant sous iyon an ak substra a ka ajiste dinamikman atravè yon platfòm wotasyon wotè -reglabl, ki pèmèt kontwòl egzak sou vitès grave (jiska 30 nm/min) pou satisfè kondisyon divès pwosesis.
• Segondè inifòmite: Ekipe ak sous iyon patante yo ak teknoloji avanse egzeyat, ekipman an jenere plasma ki gen gwo -dansite, asire inifòm grave ak rezilta konsistan atravè substrats jiska 800 mm an dyamèt.
• Doub-Fonksyon: Anplis retire fim, sistèm sa a ka Customized pou aplikasyon pou plizyè fonksyon, tankou netwayaj sifas ak pre-tretman pou pwosesis kouch ki vin apre yo.

LaPlasma netwayaj machinopere atravè yon entèraksyon sofistike nan bonbadman fizik ak reyaksyon chimik kondwi pa gaz iyonize (plasma). Nan debaz li, sistèm nan jenere plasma lè li aplike enèji radyofrekans (RF) nan yon anviwonman gaz presyon ba -(pa egzanp, oksijèn, agon, oswa nitwojèn). Enèji sa a separe molekil gaz nan espès reyaktif, tankou iyon, elektwon, ak radikal gratis, ki fòme yon nwaj plasma ki gen gwo enèji.

1, jenerasyon Plasma:
Lè pouvwa RF (tipikman 13.56 MHz oswa 40 kHz) aplike nan elektwòd yo nan chanm vakyòm lan, molekil gaz sibi yonizasyon. Sa a kreye yon egzeyat lumineux, ki pwodui yon eta plasma ki estab. Seleksyon gaz pwosesis la detèmine mekanis reyaksyon dominan an: plasma oksijèn ekselan nan oksidasyon kontaminan òganik, pandan y ap plasma Agon amelyore sputtering fizik pou résidus inòganik.

2, Netwayaj Mekanis:

• Bonbadman fizik:Iyon gwo -enèji nan plasma a fè kolizyon ak kontaminan sifas yo, kase lyezon molekilè ak patikil deloge atravè transfè enèji sinetik. Pwosesis sa a efektivman retire matyè patikil ak kouch ki fèb adhere.
• Reyaksyon chimik:Radikal reyaktif (pa egzanp, O⁎, OH⁎) kominike avèk polyan òganik yo, dekonpoze yo an pwodwi temèt (CO₂, H₂O) ke yo evakye atravè sistèm vakyòm nan.
• Aktivasyon sifas:An menm tan, ekspoze plasma modifye chimi sifas lè li kreye gwoup fonksyonèl polè (-OH, -COOH), amelyore mouillabilite ak adezyon pou pwosesis ki vin apre yo.

Konparezon Pre- ak Post-Gravasyon

• Pre-grave: Fim rezidyèl ki baze sou kabòn-(pa egzanp, DLC/ta-C coatings) oswa kontaminan yo ka degrade adezyon sifas ak pèfòmans optik.
• Afiche-Grave: Yo reyalize yon sifas ki pa gen okenn kontaminan-, sa ki amelyore adezyon pou kouch ki vin apre yo ak amelyore fyab pwodwi nan endistri tankou elektwonik konsomatè, optik, ak enèji renouvlab.

• Etching gaz: Ar, O₂
• Pwovizyon pou pouvwa: 380V/50Hz, 10 kW
• Sistèm vakyòm: Ponp molekilè ak presyon baz mwens pase oswa egal a 5.0 × 10⁻⁴ Pa
• Personnalisation: Gwosè chanm ak dimansyon ekstèn yo ka adapte a bezwen kliyan yo.

• Retire fim mens-pou lantiy optik, panno ekspozisyon, ak zouti presizyon.
• Sifas pre-tretman nan elektwonik 3C, aparèy medikal, ak nouvo endistri enèji.