Prensip k ap travay nan machin kouch DLC sitou gen ladan de pwosesis prensipal: depo vapè chimik (CVD) ak depo vapè fizik (PVD).
Depozisyon chimik vapè (CVD)
CVD se yon metòd pou depoze fim mens sou sifas substrats atravè faz gaz reyaksyon chimik. Li se sitou divize an tèmik CVD ak plasma amelyore CVD (PECVD).
Tèmik CVD: Dekonpoze gaz reyaksyon an nan tanperati ki wo pou depoze fim mens. Li apwopriye pou gwo -depo nan zòn, men li gen gwo kondisyon pou kontwòl tanperati.
PECVD: Sèvi ak plasma pou eksite gaz reyaksyon an (tankou metàn) pou fòme fim DLC ki gen bon jan kalite -nan tanperati ki ba, ki apwopriye pou substrats ki sansib pou chalè-.
Depozisyon fizik vapè (PVD)
PVD depoze materyèl sou sifas substrats atravè pwosesis fizik tankou sputtering oswa evaporasyon. Metòd prensipal yo enkli:
Magnetron sputtering: Sèvi ak iyon pou bonbade materyèl sib la pou depoze atòm kabòn sou sifas substra a, ki apwopriye pou gwo -zon inifòm kouch.
Ion gwo bout bwa depozisyon: itilize gwo -enèji reyon ion pou bonbade substra a pou fòme yon fim DLC dans ak pi wo lis ak adezyon.
